三氟化氮（NF3）：气体清洗剂，目前国内已打破技术垄断
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三氟化氮熔点-208.5℃，沸点-129℃，沸点时液体的相对密度1.89。NF3是三卤化氮中最稳定的一种，但和水、氢气、氨气、一氧化碳或硫化氢等的混合气体遇火花即发生猛烈爆炸。高纯NF3几乎没有气味，它是一种热力学稳定的氧化剂，大约在350℃左右可分解成为二氟化氮和氟气，高温下能与许多元素反应，可作为游离基的供给源。
作为半导体工业气体清洗剂的全氟烃（PFC）对环境有害，近年来有逐渐被NF3取代之势。分析报告使用比F2稳定且易于处理CVD箱，与PFC相比可减少污染物排放量约90%，且可显著提高清洗速度，从而可提高清洗设备能力约30%。NF3也是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，对硅和氮化硅刻蚀，有更高的刻蚀速率和选择性，而且对表面无污染，尤其在小于1.5μm的集成电路材料额是可重，NF3有非常优良的时刻速率和选择性，在被刻蚀表面不留任何残留物质。
NF3的生产方法主要有2种，氟氨化合法和电化学法：
NF3生产方法
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