微电子化学品行业技术概况

来源：中为咨询www.zwzyzx.com 【日期：2016-03-10 10:23:23】【打印】【关闭】

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超净高纯试剂和功能性材料的关键技术主要包括分离纯化技术、复配工艺技术以及生产相配套的分析检验技术、环境处理与监测技术、包装储存技术等。其中关键技术为分离纯化、复配工艺和检测分析；光刻胶技术主要包括配方技术和质量控制技术。

（1）分离纯化技术

分离纯化技术主要用于去除杂质，对化学品进行分离提纯以得到合格产品的过程。目前国内外制备超净高纯试剂常用的纯化技术主要有高效连续精馏技术、气体低温精馏与吸收技术、离子交换技术、膜处理技术等。这些纯化技术各有特性，各有所长，应用于不同类别产品的生产。

（2）复配工艺技术

复配是指将基本的化学产品进行功能性的叠加复合，根据特殊配方配制形成具备某种特殊功能的专用型产品。复配工艺是满足下游客户对微电子化学品功能性要求的关键工艺技术之一。复配工艺的关键在于配方，配方的形成需要企业有丰富的经验，通过不断的调配、试验、试制及测试才能完成，甚至还需要对客户的技术工艺进行实地调研，才能实现满足客户需求的功能性产品的研发。

（3）检测分析技术

检测分析技术是超净高纯试剂质量控制的关键技术之一，根据不同的检测需要，可分为颗粒分析测试技术、金属杂质分析测试技术、非金属杂质分析测试技术等。

（4）光刻胶相关技术

光刻胶的核心技术包括配方技术和质量控制技术，配方技术是光刻胶实现功能的核心，而质量控制技术能够保证光刻胶性能的稳定性。

1）配方技术

由于光刻胶的下游用户是IC芯片和FPD面板制造商，不同的客户会有不同的应用需求，同一个客户也有不同的光刻应用需求。一般一块半导体芯片在制造过程中需要进行10-50道光刻过程，由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等，不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样，即使类似的光刻过程，不同的厂商也会有不同的要求。针对以上不同的应用需求，光刻胶的品种非常多，这些差异主要通过调整光刻胶的配方来实现。因此，通过调整光刻胶的配方，满足差异化的应用需求，是光刻胶制造商最核心的技术。

2）质量控制技术

由于用户对光刻胶的稳定性、一致性要求高，包括不同批次间的一致性，通常希望对感光灵敏度、膜厚的一致性保持在较高水平，因此，光刻胶生产商不仅仅要配置齐全的测试仪器，还需要建立一套严格的QA体系以保证产品的质量稳定。

3）原材料技术

光刻胶是一种经过严格设计的复杂、精密的配方产品，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等不同性质的原料，通过不同的排列组合，经过复杂、精密的加工工艺而制成。因此，光刻胶原材料的品质对光刻胶的质量起着关键作用，目前苏州瑞红已经完成负胶原材料的国产化工作，是世界上少数几个掌握负胶原材料技术的生产商之一。

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