国内光刻胶及专用化学品的发展现状
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电子信息产业的更新换代速度不断加快,新技术、新工艺不断涌现,对光刻胶的需求不论是品种还是数量都大大增多。日本是光刻胶生产和应用最多的国家。根据日本富士经济株式会社的统计1,2011年全球光刻胶市场规模为4,736.40亿日元。电脑、手机、显示器等日常电子产品中都需要用到十几种光刻胶,光刻胶是发展微电子信息产业及光电产业中关键基础工艺材料之一。

光刻胶发明后,首先被运用于军事、国防设备中高性能集成电路、光学、传感、通讯器材等的加工制作,因此发达国家以前一直将光刻胶作为战略物资加以控制。1994年巴黎统筹委员会(对社会主义国家实行禁运和贸易限制的国际组织)解散前,光刻胶都被列为禁运产品。目前尽管放松了管制,但最尖端的光刻胶产品依然是发达国家管制对象。

生产光刻胶的原料光引发剂、光增感剂、光致产酸剂和光刻胶树脂等专用化学品是体现光刻胶性能的最重要原料,和光刻胶一样长期以来被国外公司垄断。
我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚,国家非常重视,从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。尽管取得了一定成果,并有苏州瑞红电子化学品有限公司和北京科华微电子有限公司实现了部分品种半导体光刻胶的国产化,但技术水平仍与国际水平相差较大,作为原料的主要专用化学品仍然需要依赖进口。
目前中国需要的绝大部分光刻胶都依赖进口或由外资企业在中国设立的工厂提供。光刻胶作为印制电路板、LCD显示器、半导体的上游材料不能实现国产化,严重制约了我国微电子产业的发展。
光刻胶专用化学品化学结构特殊、保密性强、用量少、纯度要求高、生产工艺复杂、品质要求苛刻,生产、检测、评价设备投资大,技术需要长期积累。至今光刻胶专用化学品仍主要被光刻胶生产大国日本、欧美的专业性公司所垄断。公司是国内少数从事光刻胶专用化学品研发、生产和销售的企业之一,主营产品是光刻胶产业链的源头,是光刻胶的基础,属于国家鼓励、重点支持和优先发展的高新技术产品。公司光刻胶专用化学品的发展对于促进光刻胶的国产化,提升我国微电子产业的自主配套能力具有重要意义。
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