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国内外半导体光刻胶引发剂的竞争对手情况

来源:中为咨询网www.zwzyzx.com 【日期:2014-11-13 22:43:31】【打印】【关闭】
半导体用光刻胶专用化学品技术水平高,更新换代快,日资企业在全球市场中占有竞争优势,公司所面临的竞争对手主要有:
 
(1)德国巴斯夫
 
(2)日本黑金化成
 
(3)日本绿化学
 
该公司从事精细和特种化学品制造,主要产品涉及制药、电子、香精香料、化妆品和光电化学品方面。电子化学品(光引发剂、光致产酸剂、液晶)占到其产品线的20%。
 
(4)日本San-Apro公司 该公司由三洋化学工业公司(日本)和雅培公司(美国)合资成立,主要产品为用于各种有机合成的超基化合物,聚氨酯催化剂,环氧树脂加速剂,光致产酸剂,防锈剂以及其他特种化学品。
本文地址:http://www.zwzyzx.com/show-281-84727-1.html
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