光刻胶：电子化学品中技术壁垒最高的核心材料，国产化率低主要依赖进口

来源：中为咨询www.zwzyzx.com 【日期：2016-09-26 10:07:11】【打印】【关闭】

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光刻胶是指通过紫外光(UV)、电子束(EB)等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，经曝光、显影后其溶解度增加的是正型光刻胶，溶解度减小的是负型光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束胶、X-射线胶和离子柬胶等。

随着新技术、新工艺不断涌现，电子信息产业的更新换代速度不断加快，对光刻胶的需求不论是品种还是数量都在持续增长，按照应用领域，光刻胶可以划分为以下主要类型和品种。

光刻胶是电子化学品中技术壁垒最高的材料。进入技术壁垒高，生产集中于少数专业企业，全球竞争格局相对稳定，市场竞争程度低，产品具有功能性强、更新换代较快、质量要求严、附加值较高的特点，因此行业平均利润水平高于一般的制造行业。

光刻胶的产品类型及用途

光刻胶行业特点

全球光刻胶市场高度集中，日本合成橡胶、东京日化、罗门哈斯、信越化学工业株式会社、富士电子材料五家企业占据全球87%的市场份额。针对国内巨大的市场需求，各大巨头抓紧推行了在中国扩张产能的步伐。

全球光刻胶被几大巨头所垄断

主要光刻胶巨头在中国扩能计划

我国光刻胶国产化率低，基本依赖进口或被外资企业占据。目前，全球光刻胶市场规模为350亿元，其中我国市场规模在100亿元左右，目我国光刻胶消费量约1400吨，其中，国内低端产品产能约为300吨/年，高端产品主要依赖进口，对外依存度达80%。

目前供应光刻胶的企业，大部分都由在半导体产业发展初期就开始参与市场的有机感光材料龙头企业所占据。国内生产光刻胶的主要企业有飞凯材料、北京化学试剂研究所、苏州瑞红、北京科华、无锡化工设计研究院等。国内光刻胶生产企业普遍规模较小、产品质量不高，与国外差距较大。预计未来随着国内企业技术的不断成熟和新建项目的陆续投产，光刻胶进口替代空间巨大。

我国光刻胶生产及市场规模情况