三氟化氮(NF3):气体清洗剂,目前国内已打破技术垄断
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三氟化氮熔点-208.5℃,沸点-129℃,沸点时液体的相对密度1.89。NF3是三卤化氮中最稳定的一种,但和水、氢气、氨气、一氧化碳或硫化氢等的混合气体遇火花即发生猛烈爆炸。高纯NF3几乎没有气味,它是一种热力学稳定的氧化剂,大约在350℃左右可分解成为二氟化氮和氟气,高温下能与许多元素反应,可作为游离基的供给源。
作为半导体工业气体清洗剂的全氟烃(PFC)对环境有害,近年来有逐渐被NF3取代之势。分析报告使用比F2稳定且易于处理CVD箱,与PFC相比可减少污染物排放量约90%,且可显著提高清洗速度,从而可提高清洗设备能力约30%。NF3也是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,对硅和氮化硅刻蚀,有更高的刻蚀速率和选择性,而且对表面无污染,尤其在小于1.5μm的集成电路材料额是可重,NF3有非常优良的时刻速率和选择性,在被刻蚀表面不留任何残留物质。
NF3的生产方法主要有2种,氟氨化合法和电化学法:
NF3生产方法

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