光刻胶相关简要情况介绍

来源：中为咨询网www.zwzyzx.com 【日期：2014-11-13 22:01:21】【打印】【关闭】

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光刻胶专用化学品分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。光刻胶是光刻技术的关键材料，现代电子信息工业产业中大量运用光刻技术，光刻技术是人类迄今所能达到的尺寸最小、精度最高的加工技术。光刻胶主要用于电子信息产业中印制电路板的线路加工、各类液晶显示器器件的制作、半导体芯片及器件的微细图形加工等领域。

光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版（mask）转移到待加工基片上的图形转移介质，其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，从而使光刻胶的溶解度发生变化。光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工，是微制造领域最为关键性的材料。光刻胶1959年被发明以来，就成为半导体工业最核心的工艺材料。随后光刻胶被改进运用到印制电路板的制造工艺，成为PCB生产的重要材料。二十世纪九十年代，光刻胶又被运用到LCD器件的加工制作，对LCD面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用。

光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同，导致对于材料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求不同。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊，要求使用不同品质等级的光刻胶专用化学品。

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