掩膜版基本情况简介
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掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一，是产业链中不可或缺的工具，具有资本密集、技术密集的特点。掩膜版工作原理如下图所示：
掩膜版的原材料掩膜基板（分为苏打掩膜基板和石英掩膜基板）是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜基板上制作成掩膜版。掩膜版的功能类似于传统照相机的底片，根据客户所需要的图形，用光刻机在原材料上刻蚀出相应的图形，把不需要的金属层和胶层洗去，即得到产成品。掩膜版对下游行业生产线的作用主要体现为利用掩膜版上已设计好的图案，通过透光与非透光的方式进行图像复制。掩膜版产品可以根据下游应用领域、尺寸大小和原材料三个维度来分类，具体如下：
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