国内光刻胶及配套化学品市场重点企业介绍

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来源：中为咨询网www.zwzyzx.com 【日期：2015-01-17 16:26:02】【打印】【关闭】

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①日本TOK（TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.）

日本TOK成立于1940年10月，总资产约753亿日元，主要生产和销售半导体光刻工艺用高纯度光致抗蚀剂，半导体液晶显示处理设备以及无机和有机化学品。

②美国罗门哈斯（Rohm and Haas Company）

美国罗门哈斯成立于1909年，是美国最大的专门研究制造精细化学品及其中间体的跨国公司。Rohm & Hass在全球拥有多家制造厂和研究机构，年销售额近70亿美元，在世界精细化工界位居第二。

③韩国东进化学（Dongjin Semichem Co.,Ltd.）

韩国东进化学成立于1967年，1983年起进入半导体材料领域，其主要产品包括光刻胶、研磨剂、蚀刻剂、LED用有机硅浸渍料等。

④台湾永光化学工业股份有限公司

台湾永光化学工业股份有限公司成立于1972年，主要从事高科技化学工业之生产、研发及内外销，其主要产品包括特用化学、电子化学、医药化学及纳米材料等，应用于半导体制造、液晶显示器制造、LED、TP触控等领域。

⑤北京科华微电子材料有限公司

北京科华微电子材料有限公司成立于2004年，是一家中美合资企业，主要产品为紫外负性、正性光刻胶及相关配套化学品，产品应用领域涉及半导体分立器件、集成电路、发光二极管等。

⑥苏州瑞红电子化学品有限公司

苏州瑞红电子化学品有限公司成立于1994年，是一家中日合资企业，公司总部位于苏州，主要产品为紫外负性、正性光刻胶及相关配套化学品，产品应用领域涉及半导体分立器件、平板显示、发光二极管等。

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