国内光刻胶及配套化学品市场的竞争状况
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我国光刻胶及配套化学品的研究始于20世纪70年代，但目前我国在该行业与国际先进水平相比有较大差距，造成差距主要原因系：一方面，高端光刻胶树脂合成及光敏剂合成技术与国际水平相比还有一定距离；另一方面，高端光刻胶的研究需要匹配昂贵的曝光机和检测设备，远远超出一般科研单位所能承受的范围。此外由于光刻胶与电子工业有特殊的关系，而电子产品又与军事有密切的关系，从而导致在先进领域很难和国外进行交流，进一步影响光刻胶研究与开发工作。目前，国内高端光刻胶产品尚需依赖进口。
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