国内微电子化学品行业相关标准

来源：中为咨询www.zwzyzx.com 【日期：2016-03-10 09:49:24】【打印】【关闭】

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（1）SEMI关于超净高纯试剂的产品标准

1975年，国际半导体设备和材料组织（SEMI）制定了国际统一的超净高纯试剂标准，IC规模及与超净高纯试剂要求的关系如下：

注1：线宽指IC生产工艺可达到的最小导线宽度，是IC工艺先进水平的主要指标。线宽越小，集成度就越高，在同一面积上就集成更多电路单元。≥1.2μm和0.8～1.2μm的硅片主要用于制作分立器件；0.2～0.6μm和0.09～0.2μm的硅片主要用于大规模集成电路和超大规模集成电路制造中。

注2：*表示指标没有统一规定，由试剂制造商根据客户具体需求确定。

随着集成电路的不断发展，超净高纯试剂必须与之同步发展，一代的微细加工技术需要一代的超净高纯试剂与之配套，不断的更新换代，才能适应集成电路生产化的需要。从国际半导体设备与材料组织（SEMI）制定的国际统一超净高纯试剂标准可以看出，随着集成电路制作要求的提高，工艺所需的试剂纯度不断提升。目前，国际上制备G1到G4级超净高纯试剂的技术都已经趋于成熟。随着集成电路制作要求的提高，对工艺中所需的电子化学品纯度的要求也不断提高。从技术趋势上看，满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之一。

（2）超净高纯试剂在各应用领域的产品标准

超净高纯试剂的应用市场半导体、光伏太阳能电池、LED和平板显示对微电子化学品的纯度要求有所不同：

1）半导体领域中，集成电路用超净高纯试剂的纯度要求较高，基本集中在SEMIG3、G4水平，我国的研发水平与国际尚存在较大差距。分立器件对超净高纯试剂纯度的要求要低于集成电路，基本集中在SEMIG2级水平，国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需求；

2）平板显示和LED领域对于超净高纯试剂的等级要求为SEMIG2、G3水平，国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需求；

3）光伏太阳能电池领域一般只需要SEMIG1级水平，是目前我国国产超净高纯试剂的主要市场。

（3）关于超净高纯试剂的产品标准

因为微电子化学品种类和规格极多，生产企业会在国内和国际标准的基础上，根据具体应用要求制定自己的产品分类标准和质量标准。

（4）光刻胶、功能性材料的相关产品标准

光刻胶和功能性材料目前尚无相应的国家或者行业标准，公司参照《中国人民共和国标准化法》制定了光刻胶产品《企业标准》，对粘度、固体含量、水分、氯离子、微粒子浓度、金属离子含量、膜厚、感度等进行了规定；制定了功能性材料部分产品《企业标准》，对技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输及贮存等进行了规定。

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