镀膜技术的发展情况

来源：中为咨询网www.zwzyzx.com 【日期：2015-04-14 17:37:11】【打印】【关闭】

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大型连续镀膜生产线设备制造业务，是近年来随着科学技术高速发展和生活水平不断提高而产生的一个新兴行业，是集薄膜技术、真空技术、机械工程设计、电气控制、大型精密机加工、大型成套设备整体设计及系统集成等多种技术与工艺于一体的高端装备制造业。

镀膜技术的发展已超过100多年的历史，20世纪初大发明家爱迪生就提出了唱片蜡膜采用阴极溅射进行表面金属化的工艺方法，这便是薄膜技术在工业上应用的开始。随着镀膜技术在各个领域应用的渗透，尤其是20世纪50年代后，真空镀膜技术逐渐发展成为主流的镀膜工艺，真空镀膜设备制造行业也随之取得迅速的发展。

真空镀膜，是指利用真空环境通过物理或化学手段，对玻璃、金属、陶瓷、塑料或有机材料等固体材质（称基材、基板或基片）镀上膜层，所镀膜层通常采用金属、合金、化合物等材料，使得基材具有防辐射、增透光、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化和装饰等特定功能，以实现提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能的一种方法。较之过去的传统镀膜方法如电镀、化学镀膜，真空镀膜在操作过程中更节能、安全、环保。同时，由于采用的镀膜材料种类更丰富、镀膜膜层更均匀、膜层厚度更易控制、附着力更强等诸多优势，真空镀膜能达到更好的镀膜效果。目前，真空镀膜已经发展成为市场的主流镀膜方法，广泛地应用于平板显示器件、建筑节能玻璃、光伏电池、光学镜片、工艺及装饰品、机械工具、零件、新材料开发运用等各个领域，与现代生产生活的联系日益紧密。

真空镀膜工艺又可以分为真空蒸发法、真空磁控溅射法等，由于真空磁控溅射法在镀膜产品的品种和质量上具有显著优势，目前已基本取代了真空蒸发法成为了最主要的工业化膜层沉积方式。宏大真空的产品主要采用真空磁控溅射法。真空磁控溅射镀膜是指在真空环境加入惰性气体，利用高压电场作用将惰性气体离子化并撞击阴极上靶材（膜材料）使之溅出，通过磁场控制带电离子溅射方向形成离子云，轰击到基材（平板玻璃等）形成膜层的一种方法。真空磁控溅射的基本原理：