平板显示制造工艺的应用情况
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一片表面平滑、没有任何杂质的玻璃基板，制成可用的薄膜电晶体，需要重复清洗、镀膜、上光阻、曝光、显影、蚀刻、区光阻等过程。一般来说，要制造TFT-LCD需要重复5到7次上述工序。湿电子化学品主要用于平板显示制造工艺环节的薄膜制程清洗、光刻、显影、蚀刻等工艺环节。具体工艺流程如下图所示：
随着平板显示向高世代发展趋势的加快，对产品的良品率、稳定性、分辨率以及反应时间会有越来越高的要求，相应对高世代用湿电子化学品提出越来越高的要求。
目前，国内平板显示领域3.5代线及以下用超净高纯试剂基本实现国产化，4.5代线、5代线平板显示用湿电子化学品的国产化率仅有30%，6代线至8.5代线平板显示用湿电子化学品国产化率仅有10%左右。
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