光刻胶及其配套化学品的概念及特性
相关报告
- 2015-2020年中国电子化学品行业市场主要领域调查分析报告(2015-10-08)
- 2015-2019年中国光刻胶专用化学品行业市场发展研究及投资前景分析报告(2014-11-21)
- 2015-2019年中国光刻胶专用化学品行业市场深度调查研究及投资前景分析报告(2014-11-21)
- 2015-2020年中国特种油墨行业市场主要领域调查分析报告(2015-10-08)
- 2015-2020年中国光刻胶配套试剂行业市场重点层面调查研究报告(2015-10-09)
- 2016-2022年中国电池材料用化学品行业市场深度调查研究及投资咨询报告(2015-11-24)
- 2015-2019年中国LCD光刻胶行业市场深度调查研究及投资前景分析报告(2014-11-21)
- 2015-2020年中国LCD光刻胶行业市场主要领域调查分析报告(2015-10-14)
- 2015-2020年中国集成电路用化学品行业市场主要领域调查分析报告(2015-10-08)
- 2015-2019年中国光刻胶专用化学品行业市场深度调查分析及投资战略研究报告(2014-11-21)
①光刻胶概念
光刻胶是由成膜树脂、感光化合物和溶剂三种主要成分组成的具有光化学敏感性的混合液体。光刻胶应用原理与PCB感光油墨相似，通过经曝光和显影后留下的光刻胶对底层起保护作用，后经蚀刻将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。
光刻胶是电子产品微细加工技术中的关键性电子化学品，主要应用于集成电路（IC）、液晶显示（LCD）、触摸屏（TP）、发光二极管（LED）等产品微细加工，同时在先进封装，磁头及微机电系统（MEMS）等领域也有着广泛的应用。光刻胶配套化学品是在光刻过程中配套使用的专用化学品，主要包括增粘剂、稀释剂、显影液、剥离液、清洗剂等。
②光刻胶产品分类
光刻胶的技术复杂、品种繁多，根据曝光波长划分为：紫外宽谱（g+h+i线）光刻胶、KrF（248nm）光刻胶、ArF（193nm）光刻胶、辐射线光刻胶等根据化学反应机理，光刻胶可分负性光刻胶、正性光刻胶两类。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率通常只能达到2微米，因此正性光刻胶的应用更为普及。正性及负性光刻胶的反应原理如下：
本文地址：http://www.zwzyzx.com/show-348-111413-1.html
上一篇：国内PCB油墨的主要类别情况
下一篇：国内电子化学品行业相关情况简介
相关资讯
- 中国预计在2020年成为世界第二大药品市场(2014-07-01)
- 建筑装饰石材和景观石材的联系(2014-06-20)
- 国内功率半导体分立器件行业主要法律法规和政策(2015-05-25)
- 影响国内移动互联网多媒体软件行业发展的不利因素(2015-04-11)
- 两大电网公司针对电力设备状态检测、监测均已推出了具体的配置原则(2014-06-27)
- 国内烟标印刷行业内主要企业情况(2015-07-06)
- 固定资产投资持续增长，将促进建筑设计及市政设计业务的发展(2014-08-06)
- 国内轮胎行业市场供求状况及变动原因(2015-04-08)
合作媒体
最新报告
定制出版
热门报告
免责声明
中为咨询所引述的资料是用于行业市场研究以及讨论和交流，并注明出处，部分内容是由相关机构提供。若有异议请及时联系本公司，我们将立即依据相关法律对文章进行删除或作相应处理。查看详细》》
